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第808章 正确的技术路线

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    良久……

    办公桌和办公椅一片狼藉,甚至就办公电脑,都因为茶杯被撞到,水流进机箱烧毁了主板而报废。

    好在孟欣的电脑上的材料都有备份,定期会上传到实验室的加密的内部存储服务器中。但的惯用的一台办公电脑,出现了这种问题,不仅让蒙欣生气的将林棋掐的胳膊上青一块红一块。林棋自然是还以颜色,让她知道,这个世界终究还是男人更厉害。

    “要死啦!真是的,只管自己舒服,不管后果!”在完事后,蒙欣将痕迹擦干净,并开始整理衣服,打扫办公室,说道,“就知道给我添乱,电脑里面资料,至少是几个小时劳动成果。算成人民币,少数几百万。”

    “是,是!老婆大人,对不起!”林棋满足了之后,心情还是不错的,帮蒙欣收拾混乱的办公室。

    “知道错了?”

    “嗯!”

    “这么放过你,我气不过!给我重装一台电脑,别人不许装忙!”

    “不是吧?老婆大人,直接让后勤部门送一台新的整机不就好了?”

    “这是惩罚,我乐意!”

    蒙欣打电话给公司实验室的后勤部门,将报废的电脑拿出去看看能不能修理恢复数据,不能的话,报废的电子元件也不能外流,而是通过物理手段销毁。

    要知道,即使是报废的电脑,里面也可能残留一些重要的资料,为了避免流失,重要的科研机构,最好是将硬盘之类的重要存储硬件给销毁。当然了,为了管理更完善,其他部件也不能外流。

    之后,林棋在蒙欣的胁迫下,跟她一起组装新的办公电脑。原本,可以送整机过来的,但是蒙欣为了惩罚林棋,所以,让人送硬件过来,之后,开始指挥林棋,将硬件组装起来。遇到林棋笨手笨脚的样子,蒙欣通过嘲讽来获得愉悦。

    也多亏林棋脾气好,要不然真的会翻脸。

    苦逼的拿着装机手册,在孟欣的笑话中,开始将这个年代顶级配置的办公电脑装好了。虽然,是不可能跟21世纪的电脑相比,但是已经是这个年代办公电脑的顶配。

    虽然,装机的过程已经不断的优化,已经很照顾小白了。但是,林棋还是觉得真尼玛的累人,所以,也打算回去继续让公司简化下一代盘古电脑的装机。不需要任何技术,不需要任何经验,都可以快速安装,才是王道。

    忙完了之后,蒙欣噗嗤一笑,给林棋擦汗,说道“老公,辛苦了,看你累的。”

    “累个屁,不累!”林棋一语双关,“不服的话,再战第二回合。”

    由于憋了几个月,让林棋感觉自己比以往要神勇的多。

    “去你的!”蒙欣白了他一眼,说道,“我还有忙不完的事情呢,以为我跟你一样,越老越不正经。”

    ……

    国产05微米光刻机虽然已经研发成功,但是为了避免打草惊蛇,所以,暂时并未准备大张旗鼓的在新闻上进行宣传。

    而且,在技术上也是遮遮掩掩,避免更快是被竞争对手了解技术方向。

    反正现阶段,05微米的光刻机,也不需要对外出售。

    现阶段,林蒙科技公司盈利模式,一方面是专利费,另外一方面则是光刻机。在专利数量方面,林蒙科技看起来不如新创业电子,一年也就注册一千多个国际专利,国内专利每年注册数量也不超过3000个。各种外观专利和一些应用专利,林蒙科技公司都不屑于注册,注册的基本上都是一些技术含量非常高的核心科技。

    比如,现在的05微米光刻机,就不是模仿现在的光刻机厂商的主流技术,而是应用了90年代还未普及的新技术,沉浸式光刻技术。

    用沉浸式光刻技术来做05微米的光刻机,也就是500纳米,有点杀鸡用了牛刀的感觉,但是如果现在不用的话,以后这些专利可能会被别人注册。所以,即使杀鸡用了牛刀,也先提前占坑!

    光刻机在60年代开始问世,一开始是接触式光刻机、接近式光刻机,到70年代逐渐升级到了投影式光刻机,使得半导体工艺水平,逐渐开始代表人类最精密的加工工艺水平。到1980年代,光刻机再度升级到了步进式光刻机和步进式扫描光刻机。

    每一次技术突破,都会使得半导体制造行业出现技术方向的选择。而选对的方向,自然是赢家通吃,而选错了方向,未来会因为技术落后,在利润更高的高端光刻机市场,失去自己的市场份额

    在80年代,欧美日等等国家拥有超过百家以上的企业,都是具备能力研发和生产光刻机的,甚至,就连东德曾经也是光刻机市场上的供应商。

    而进入90年代之后,大量的光刻机厂商开始掉队落后。欧洲的asl在90年代初,市场占有率也不是那么高,甚至技术也不是太先进。真正让这家公司爆发,则是后来2002年,率先采用了193n浸入式光刻机。一开始,193n浸入式光刻机并未真正的领先,一直到2004年,才是利用193n浸入式光刻机,做到了90纳米加工精度。随后,渐渐的突破65纳米、40纳米、28纳米,让非浸入式光刻机望尘莫及!

    尤其是,28纳米时代,更是让非浸入式光刻机厂商绝望,甚至,已经放弃了继续研发投入,因为,不可能追赶浸入式光刻机。

    也正是因为在关键性的技术节点上,选对了方向。所以,asl公司在21世纪初,独霸光刻机市场。

    而佳能和尼康等等竞争对手,后来废了老大的劲,也很制造28纳米级别精度的光刻机,更何况,asl公司并未停止进步,反而不断将精度从28纳米之后,继续向20纳米、14纳米、12纳米、10纳米、7纳米,不断的提升。

    其他的光刻机厂商,后来跟asl的差距逐渐被拉大到十年以上。除非等到asl专利过期,并且,未来工艺水平会长期停滞,否则,被技术差距被拉大到十年以上的程度的业界同行,基本没有可能抢回市场。

    而这次推出的光刻机,虽然工艺水平仅达到05微米,给侵入式光刻机技术丢人了,但是,宁可杀鸡用牛刀,也不能让技术路线的主导权,被别的厂商占了坑。

    侵入式光刻机问世后,一直是所有的对手都束手无策,只好眼睁睁的看着一家公司垄断市场。可见,这个技术路线在未来几十年来,代表着正确的方向。未来一直到5纳米时代,技术路线上都是在2002年的技术路线上修补。

    甚至可预见的未来,纳米时代终结之前,这个技术是无敌的。只有纳米时代之后,进入理论上存在的皮米级工艺时代,可能才会换成其他的技术路径。但是1纳米还不知道什么时候能达到,更别说,终结了纳米之后的皮米时代,有生之年能不能来临还是未知数。

    至少,在林棋和蒙欣所知的未来,人类对于材料的加工工艺精度,还未突破1纳米。

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